刘佳敏

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个人简介

刘佳敏，1994年生，博士，betway必威中国最新app在站博士后。于2020年获betway必威中国最新app工学博士学位。2020年至今在betway必威中国最新app智能制造装备与技术全国重点实验室从事博士后研究。主要研究方向包括原位穆勒矩阵椭偏测量方法、IC制造在线测量检测技术等，先后参与国家杰出青年科学基金项目、国家自然科学基金重点项目等。 入站时间：2020年10月 所在团队：纳米光学测量 合作导师：刘世元教授

研究方向

原位穆勒矩阵椭偏测量方法、IC制造在线测量检测技术

开设课程

科研项目

[1] 国家自然科学基金重点项目：EUV光刻掩模缺陷原波长叠层衍射检测理论与方法研究（52130504），项目骨干，2022-2026。 [2] 国家杰出青年科学基金项目：机械测试理论、方法与技术（51525502），项目骨干，2016-2020。 [3] 国家自然科学基金青年基金：晶圆缺陷的形序双折射成像椭偏超灵敏检测理论与方法（52305577），主持，2023-2026。

论文专著与专利

代表性论文： [1] J. Zhu, J. Liu, T. Xu, and et al. Optical wafer defect inspection at the 10 nm technology node and beyond. International Journal of Extreme Manufacturing, 2022, 4: 032001. [2] J. Liu, W. Gong, L. Li, and et al. Longitudinal magneto-optical Kerr effect in subwavelength thick ferromagnetic films investigated by Mueller matrix ellipsometry. Optics and Lasers in Engineering, 2023, 171: 107803. [3] J. Liu, Z. Jiang, S. Zhang, and et al. Calibration of polarization effects for the focusing lens pair in a micro-spot Mueller matrix ellipsometer. Thin Solid Films, 2023, 766: 139656. [4] J. Liu, H. Jiang, L. Zhang, and et al. Thickness dependent native oxidation kinetics of Cu films observed by ellipsometry. Applied Surface Science, 2020, 518: 146236. [5] J. Liu, M. Wang, H. Jiang, and et al. Annealing temperature dependency of optical and structural properties for Cu films. Physical Review B, 2020, 101: 014107.

荣誉获奖

[1] 2021年湖北省博士后创新岗 [2] 2022 IJEM最佳论文奖 [3] 2018全国光机电技术及系统学术会议学生优秀报告奖

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论文专著与专利

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